1. 転職サイト ビズリーチ
  2.  > 
  3. 求人検索
  4.  > 電子ビームマスク描画装置光学設計

転職・求人情報の詳細をご覧になる場合は会員登録(無料)が必要です

新規会員登録(無料)

電子ビームマスク描画装置光学設計

年収:800万 ~ 1000万

ヘッドハンター案件

部署・役職名 電子ビームマスク描画装置光学設計
職種
業種
勤務地
仕事内容 【業務内容】
次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務。
マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討する。
広い視野で業務を行う必要があり、今までの経験を生かして、新規光学設計をお願いしたい。

【職場や職務の魅力】
電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。
フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。
次世代装置としては、より高い描画精度が求められる為、高機能な光学設計を組み込むことが、次世代装置開発に求められる課題となります。
その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。課題解決への道筋がつけられない際は、経験豊富なベテラン光学設計者からのアドバイスも得られ、自らの光学設計者としての成長が期待できる職場です。
労働条件 就業時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
※現在コロナ対策としてフルフレックスタイム制・在宅勤務制度
・時間外労働:有(月平均25時間)

社会保険
・厚生年金、健康保険、雇用保険、労災保険、介護保険

休日
完全週休二日制
・完全週休2日制(土・日)、祝日 ・年末年始休暇、夏季休暇 ・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日) ・慶弔休暇、特別休暇 等 ・年間休日125日以上

賞与
・年2回:7月、12月(昨年度実績 5.42ヶ月)

制度・福利厚生
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金
・財形制度
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・共済会制度、選択型福祉制度「カフェポイント」
・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・教育研修制度 ほか

応募資格

【必須(MUST)】

大学卒業以上

・大学1年生レベルの力学、電磁気学、数学を、ある程度使いこなせる方。
 または、基礎的な力学、電磁気学、数学などを、卒業研究や業務などで使った経験のある方。

【歓迎(WANT)】

・電子顕微鏡、半導体製造装置等の、荷電粒子ビームの軌道計算や光学設計などに従事した経験のある方。
・荷電粒子ビーム光学シミュレーター、電界や磁界のシミュレーターなどの利用経験のある方。
・電子顕微鏡等を手動で調整した経験のある方。
・技術文書、論文などの英語(主に読解)に抵抗が少ない方。

受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2024/04/10
求人番号 3443398

採用企業情報

この求人の取り扱い担当者

転職・求人情報の詳細をご覧になる場合は会員登録(無料)が必要です

新規会員登録(無料)