最終更新日:2026/04/01
【茨城/山崎事業所】CMPスラリーの開発担当(未経験者歓迎)
800万円〜1,000万円
研究・開発 研究・開発 生産管理
半導体 化学・石油
茨城県
仕事内容
<組織のビジョン・ミッション/活動方針> 研磨材料であるCMPスラリメーカーとして、グローバルで存在感を確立し、技術力・安定力・成長力=No.1であることを目指します。新製品開発と既存製品拡大の両輪を回し、半導体の高性能化に寄与して社会貢献します。 <CMPスラリーとは> 半導体の表面を精密に平坦化するための研磨液です。CMP(化学機械研磨)プロセスで使われるスラリーは、化学反応と機械的研磨の両方を利用して、ウェーハ表面の凹凸を均すための重要な材料です。 <業務概要> 研磨砥粒としてセリアを用いる酸化膜研磨用と、シリカを用いるメタル研磨用の2種類のスラリがあり、主要顧客は大手半導体メーカーで売上げの多くは海外顧客です。セリア系及びシリカ系CMPスラリメーカーの砥粒設計及び添加剤設計、及び顧客対応を行っていただきます。 <業務詳細> 今回の募集では砥粒・添加剤を含めたCMPスラリの組成開発や顧客対応を担当して頂きます。 ・砥粒や添加剤を含めたスラリ組成開発 ・量産移管 ・既存品の品質改善 ・生産プロセス改善 ・顧客対応 ・研磨機構解明のような基礎研究 <やりがい・魅力> CMPスラリは半導体デバイスの製造に必須の材料なので、情報社会に貢献している実感が得られ、当社の主力製品の1つでもあるので、会社の業績に寄与している実感も得られます。更に、世界的な半導体メーカーと関わることができます。また、製造、品証、事業部と言った関連部門だけでなく、計算や分析などの部門、他事業所とも連携しているので、種々の知識、スキルに触れることができます。 <キャリアパス> CMPスラリーについてや業務内容については、業務はOJTを通して学んでいただきます。開発業務を通じて、将来的にはチームリーダー職や、海外赴任のチャンスもあります。
労働条件
<勤務時間> 8:00 ~ 16:45 所定労働時間 :7時間45分 休憩時間 :60分(12:00~13:00) ※フレックスタイム制:あり(コアタイムなし) <勤務地> 事業所名:山崎事業所 住所:茨城県日立市東町4-13-1 受動喫煙対策:敷地内喫煙可能場所あり/屋内喫煙可能場所あり <雇用形態> 無期正社員 <試用期間> 3ヶ月 <賞与> 年2回(6月、12月支給) <休日> 年間休日123日 完全週休2日制 祝日、年末年始、その他一斉年休行使日5日有 年次有給休暇、サポート休暇、特別休暇 ※その他休暇: 産前産後休業、配偶者出産休暇、結婚休暇、忌慰休暇、 公用休暇、罹災休暇、転勤休暇、リフレッシュ休暇、介護休暇、子の看護休暇、不妊治療休暇、母性健康管理休暇、アディショナル休暇、公傷休業等 <各種手当> 時間外手当、通勤手当、家賃補助、ライフサポートプレミアム、育英補助、在宅勤務手当、慶弔給付、災害補償 等 ※会社規定に基づき、条件該当者に支給 ※ライフサポートプレミアムとは:資産形成や不時への備えへの「自助化促進原資」と位置付けており、個人のニーズに合った商品を選択可 ┗ 選択可能商品/団体積立年金、確定拠出年金拠出、GLTD個人上乗せ補償、医療保険、生命保険、損害保険 等 ※育英補助とは:扶養家族である満22歳未満の子を有する社員に子一人あたり10,000円/月支給する手当(上限なし) ◇その他、退職金有:あり(確定拠出年金) <社会保険> 健康保険・厚生年金・雇用保険・労災保険 <その他> 外為法のみなし輸出管理の明確化に伴い、下記2点いずれかに該当する場合は、応募時にご相談ください。 ①当社ご入社後、外国法人や政府などの団体・機関と、雇用契約等何らかの契約を結ぶ予定がある ②外国法人や政府などの団体、機関から、多額の金銭、その他の重大な利益を得ている
応募資格
必須(MUST)
・大学修士以上レベルの化学一般の基礎知識があり、実験ができること。
歓迎(WANT)
・ナノ粒子、無機酸化物の合成・表面処理・分散制御技術、水溶性高分子等のいずれかの知識を有していること。 ・グローバルな感覚を有していること(TOEIC:600点以上が望ましい)。 ・半導体デバイスに関する知識を有していること。 ・半導体関連の材料開発経験がある方 ・普通自動車免許
その他(OTHER)
<求める人物像> ・新しいことに挑戦するポジティブなマインドを有していること。 ・チームワークでの仕事に長け、他者の様々な考え方に柔軟に対応できること。
求人番号:4463031
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