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【ALD/PECVD装置プロセス開発】中国発グローバル企業の日本法人♦︎世界市場を牽引する次世代半導体技術のスペシャリストを募集！

年収： 1200万～ 1700万

採用企業案件

採用企業

部署・役職名	【ALD/PECVD装置プロセス開発】中国発グローバル企業の日本法人♦︎世界市場を牽引する次世代半導体技術のスペシャリストを募集！
職種	研究・開発
業種	半導体
勤務地	東京都
仕事内容	■弊社について当社は2021年4月に日本法人を設立し、親会社の技術力を基盤としながら、半導体産業の最先端技術が集積する日本で、ALD/PECVD装置の研究開発・製造を推進しています。当社は「全て自社研究開発を行う」という技術重視の企業理念を掲げ、日本と中国の技術提携を最大限に活用し、共同開発、技術買収、M&A事業なども視野に入れています。この度募集するプロセス開発専門家は、日本国内の研究開発チームに所属し、主にALD/PECVD装置のプロセス開発を担当していただきます。少人数の精鋭部隊として、自社研究開発チームを管理しつつ、末端ユーザーとの共同開発にも積極的に関与していただきます。世界一の市場規模を持つ中国市場への供給と、世界的な半導体技術革新をリードする日本との連携により、グローバルな視点で技術開発に貢献できる環境です。 ■募集背景企業の更なる飛躍的な発展を目指し、膨大な市場需要を満たすため、近年半導体産業に進取することにしました。５Gの時代にて世界一の膨大な市場である中国側の需要を満たすため先駆的な装置開発＆プロセスのリーダーを募集します。 ■業務内容 ALD/PECVD装置のプロセス開発専門家として、以下の業務に携わっていただきます。 ALD/PECVD装置のプロセス条件開発と最適化・成膜プロセスの設計、実験計画の立案、実行・最適な温度、圧力、ガス流量などの条件設定薄膜の成膜プロセス開発と評価（膜厚、組成、均一性）・開発したプロセスの膜特性評価（SEM, TEM, XRD, XPS等を用いた分析）・膜の均一性、品質向上に向けた改善策の検討成膜プロセスの安定化、量産化に向けた改善活動・開発プロセスの安定稼働に向けたチューニング・量産ラインへの技術移管と立ち上げ支援・不良発生時の原因究明と対策立案末端ユーザーとの共同開発、技術コンサルティング・顧客の具体的なニーズをヒアリングし、最適なプロセスソリューションを提案・共同開発プロジェクトの推進と技術的な課題解決自社研究開発チームの管理・指導・プロジェクトマネジメント、進捗管理・若手技術者への指導・育成これらの業務を通じて、量産化に貢献し、市場競争力強化、顧客課題の解決、自社装置の性能向上と差別化を実現していただきます。 ■ポジションの魅力当ポジションは、ALD/PECVD装置開発において最先端の半導体技術に触れる機会が豊富にあります。世界規模での技術革新に貢献できるという、大きなやりがいを感じられるポジションです。また、日本と中国の技術提携を推進するキーパーソンとして、国際的なキャリアを築くことも可能です。キャリアパスとしては、プロセス開発チームのリーダーやマネージャー、ALD/PECVD装置開発プロジェクトの責任者、さらには先端技術開発部門への異動など、多岐にわたる成長機会が用意されています。半導体プロセスの専門家として、世界にインパクトを与える技術開発に挑戦したい方を歓迎します。
労働条件	契約期間：期間の定めなし試用期間：あり / なし（３カ月）就業時間：９:00～１７:00（休憩1時間）休日：土日、祝日社会保険：健康保険、厚生年金、労災保険、雇用保険その他：
応募資格	【必須（MUST）】 ■ALD/PECVD半導体用装置の開発・プロセス開発のご経験が15年以上にある方或いは半導体業界でプロセスサポートエンジニアとして半導体装置の専門知識・経験を15年以上にお持ちの方（半導体装置メーカーの経験が望ましい）。【歓迎（WANT）】 ■中国語、英語でのコミュニケーションが可能な方（本国とのコミュニケーションで活用頂きます。）　　　　　　　　　■中国勤務可能の方
アピールポイント	海外事業フレックスタイム
受動喫煙対策	喫煙室設置
更新日	2026/05/25
求人番号	8441240

採用企業情報

先導日本研究開発センター株式会社

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