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| 部署・役職名 | SiCセラミックスの洗浄工程改善 |
|---|---|
| 職種 | |
| 業種 | |
| 勤務地 | |
| 仕事内容 |
半導体製造装置用SiCセラミックスの洗浄工程における工程改善、品質改善 【詳細】 ・半導体製造装置用部材として使用されるSiCセラミックスの洗浄工程改善、品質改善 工程改善:効率改善、管理方法や手順の改善や見える化、純度分析方法の改善など 品質改善:純度向上を目的とした洗浄方法の改善、新規設備の検討など |
| 応募資格 |
【必須(MUST)】 半導体製造の洗浄プロセスでの技術経験者【歓迎(WANT)】 ICP-MS分析の知識、経験のある方 |
| アピールポイント | 自社サービス・製品あり 上場企業 シェアトップクラス 創立30年以上 年間休日120日以上 |
| リモートワーク | 不可 |
| 受動喫煙対策 | その他 「就業場所が屋外である」、「就業場所によって対策内容が異なる」、「対策内容は採用時までに通知する」 などの場合がその他となります。面接時に詳しい内容をご確認ください |
| 更新日 | 2025/12/04 |
| 求人番号 | 6078902 |
採用企業情報
- 株式会社MARUWA
-
- 資本金8,646百万円
- 会社規模501-5000人
- 電気・電子
- 半導体
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会社概要
【設立】1973年4月5日
【代表者】代表取締役社長 神戸 俊郎
【資本金】86億4,672万円
【売上高】615億6,400万円(2024年3月期)※連結
【本社所在地】愛知県尾張旭市南本地ヶ原町三丁目83番地
【事業内容】
■エレクトロニクス用・産業用セラミックス及び電子部品の開発・製造・販売
(東京証券取引所、ロンドン証券取引所、シンガポール証券取引所上場)
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