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部署・役職名 | Hマイクロ・ナノ製造プロセスエンジニア(GaNデバイスプロセス方向) |
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職種 | |
業種 | |
勤務地 | |
仕事内容 |
1. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP などのマイクロ・ナノプロセスにおける主要な技術的ブレークスルーを担当し、全プロセスを形成する。 2. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP、その他のプロセスの開発、最適化、異常分析および改善を担当し、プロセスの安定性を確保する。 3. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP 等設備能力および関連材料の評価を担当し、イエローライト設備の立ち上げ、デバッグ、検収に関与する。 4. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP およびその他のプロセスに関する技術仕様、操作説明書、及び異常処理 SOP の作成を担当する。 |
労働条件 |
1. 清潔で広々としたオフィス環境。 2. シャトルバスあり。 3. スポーツ施設が充実(体育館にバドミントン/卓球/バスケットボールスペースあり,ランニングマシン)。 4. 風通しの良い、イキイキとした雰囲気。 福利厚生:健康保険、雇用保険、厚生年金、労災保険。 入社初年度から14日間の有給休暇(最高付与日数20日 試用期間(3ヶ月)後に支給/入社月により按分)、夏季休暇4日間、病気休暇4日間、慶弔休暇あり。 交通費:会社規定に基づき支給。 |
応募資格 |
【必須(MUST)】 1. 理工学専攻、学士以上の者2. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP などの 1 つ以上の装置またはプロセスにおける 3 年以上の経験 3. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散またはCMP関連のプロセスおよび材料に精通している。 |
アピールポイント | 自社サービス・製品あり 外資系企業 女性管理職実績あり 従業員数1000人以上 シェアトップクラス 年間休日120日以上 産休・育休取得実績あり 社内公用語が英語 |
受動喫煙対策 | 屋内禁煙 |
更新日 | 2024/04/25 |
求人番号 | 3382935 |
採用企業情報
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