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Hマイクロ・ナノ製造プロセスエンジニア(GaNデバイスプロセス方向)

年収:1000万 ~ 1500万

採用企業案件

採用企業

華為技術日本株式会社

  • 東京都

    • 資本金4,564百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 通信・キャリア
  • 電気・電子
  • 精密・計測機器
部署・役職名 Hマイクロ・ナノ製造プロセスエンジニア(GaNデバイスプロセス方向)
職種
業種
勤務地
仕事内容 1. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP などのマイクロ・ナノプロセスにおける主要な技術的ブレークスルーを担当し、全プロセスを形成する。
2. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP、その他のプロセスの開発、最適化、異常分析および改善を担当し、プロセスの安定性を確保する。
3. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP 等設備能力および関連材料の評価を担当し、イエローライト設備の立ち上げ、デバッグ、検収に関与する。
4. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP およびその他のプロセスに関する技術仕様、操作説明書、及び異常処理 SOP の作成を担当する。
労働条件 1. 清潔で広々としたオフィス環境。
2. シャトルバスあり。
3. スポーツ施設が充実(体育館にバドミントン/卓球/バスケットボールスペースあり,ランニングマシン)。
4. 風通しの良い、イキイキとした雰囲気。

福利厚生:健康保険、雇用保険、厚生年金、労災保険。 入社初年度から14日間の有給休暇(最高付与日数20日 試用期間(3ヶ月)後に支給/入社月により按分)、夏季休暇4日間、病気休暇4日間、慶弔休暇あり。 交通費:会社規定に基づき支給。
応募資格

【必須(MUST)】

1. 理工学専攻、学士以上の者
2. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散、CMP などの 1 つ以上の装置またはプロセスにおける 3 年以上の経験
3. リソグラフィーライト、成膜、湿式法、拡散またはCMP関連のプロセスおよび材料に精通している。

アピールポイント 自社サービス・製品あり 外資系企業 女性管理職実績あり 従業員数1000人以上 シェアトップクラス 年間休日120日以上 産休・育休取得実績あり 社内公用語が英語
受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2024/05/23
求人番号 3382935

採用企業情報

華為技術日本株式会社
  • 華為技術日本株式会社
  • 東京都

    • 資本金4,564百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 通信・キャリア
  • 電気・電子
  • 精密・計測機器
  • 会社概要

    【設立年月】2005年11月
    【代表者】侯 涛(ホウ タオ)
    【資本金】45億6,421万5,000円
    【従業員数】1,081名(2022年12月現在)
    【本社所在地】東京都千代田区大手町1-5-1

    【事業内容】
    ・通信事業者向けネットワーク事業
    ・法人向けICTソリューション事業
    ・コンシューマー向け端末事業

    【当社について】
    ■ファーウェイ(中国語表記:華為技術、英語表記:Huawei)は、1987年に中国・深センに設立された従業員持株制による
    民間企業であり、従業員数17万人以上、世界有数のICTソリューション・プロバイダーです。
    2015年にはスマートフォンの出荷台数が1億台を超え、世界第3位となりました(IDC)。
    ファーウェイは通信事業者、企業、消費者の皆様に最大の価値をもたらすべく、競争力の高い製品やサービスを
    170か国以上で提供し、世界の多くの人々のICTソリューション・ニーズに応えています。
    ■ファーウェイ・ジャパン(華為技術日本株式会社)は2005年に設立。日本はファーウェイにとって重要な調達市場でもあり、
    日本研究所内のソーシング・センターでは優れた技術を持つ日本のサプライヤーとの協業関係を積極的に構築しています。
    ■ファーウェイのビジョンは、「通信技術を通じて人々の生活を豊かにする」ことです。通信業界で長年培ってきた経験や
    ノウハウを生かし、情報格差の解消に努め、情報化社会がもたらす利益を誰もが享受できるよう尽力しています。

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