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| 部署・役職名 | フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価 |
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| 業種 | |
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| 仕事内容 | フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価 |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 ・フォトレジストの研究開発の経験（3年以上）があり、先端半導体リソグラフィに精通していること・フォトレジストの研究開発（ArF, EUV向け） ・フォトレジストの処方（フォーミレーション）、物性評価（特にプロセス適性）、ポリマー/感光剤（PAG）等の設計・合成、分子またはプロセスシミュレーションフォトレジストの開発経験がなくても、下記の経験があれば、対象とする ・フォトレジスト周辺素材；BARC（反射防止膜、アンダーレイヤー）、SOH（スピンオンハードマスク）等の処方/物性評価 【歓迎（WANT）】 ・研究開発のリーダーまたは管理職の経験・特許または論文の筆頭著者 ・対外協力（大学、公的研究機関、企業）の経験、海外機関が対象であればより望ましい ・語学（英語、韓国語） ＜学歴＞ 修士以上またはそれと同等以上の企業経験 |
| 受動喫煙対策 | 屋内禁煙 |
| 更新日 | 2023/12/19 |
| 求人番号 | 3167954 |
採用企業情報
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- 会社規模501-5000人
この求人の取り扱い担当者
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- IT・インターネット メーカー メディカル
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