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部署・役職名 | フォトレジスト素材の研究開発 |
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職種 | |
業種 | |
勤務地 | |
仕事内容 |
フォトレジスト素材の設計、合成、分析、特性評価 |
応募資格 |
【必須(MUST)】 いずれか必須・フォトレジストの研究開発の経験(3年以上:ArF, EUV向け) ・ポリマー、感光剤(PAG)等の設計・合成、特性評価、分子またはプロセスシミュレーション 【歓迎(WANT)】 複数またはいずれかの経験・研究開発のリーダーまたは管理職の経験 ・特許または論文の筆頭著者 ・対外協力(大学,公的研究機関,企業)の経験,海外機関が対象であればより望ましい ・英語 ・デバイスメーカー(顧客)とやりとりのある方 |
アピールポイント | 完全土日休み フレックスタイム 月平均残業時間20時間以内 |
リモートワーク | 不可 |
受動喫煙対策 | 喫煙室設置 |
更新日 | 2023/12/22 |
求人番号 | 3059811 |
採用企業情報
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