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| 部署・役職名 | [テレワーク勤務可]OPC技術開発エンジニア |
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| 仕事内容 |
【背景】 露光機の光源波長を下回るパターンの形成には、ウェハプロセス側の技術開発や改善だけではなく、設計ルール/レイアウトの最適化やOPC含むマスクパターンの補正も必要になります。OPC含めたマスクパターン補正はSoCやMCUで先行している技術ですが、微細化が進むアナログやパワーデバイスでも必要となりつつあり、対象デバイスの拡大が見込まれています。今回、OPC技術開発エンジニアに欠員が発生したため、経験者を社外から募集します。 【職務内容】 マスクEDAツールを駆使して、OPC等のマスクパターン補正技術の開発を行い、マスクデータ処理ツール・フローへの組み込みを行ないます。 ・OPC技術開発 ・OPC技術等を含むマスクデータ処理フロー整備 ・将来的なマスクEDAツールの戦略策定と実行 |
| 労働条件 |
雇用形態：正社員 ＜給与＞ 年収600～1000万程度 ※経験等を考慮し決定します 勤務時間：09:00～17:30（実働7時間45分 休憩45分） 勤務地：武蔵事業所（東京都） ※テレワークでの勤務も可能です 休日休暇：【年間休日125日】、完全週休二日制（土・日）祝日、夏季休暇、年末年始休暇、年次有給休暇（初年度23日） 待遇・福利厚生：昇給：年1回、賞与：年2回、社会保険完備（雇用・労災・厚生年金・健康）、企業年金制度、財形貯蓄制度、持株会制度、通勤手当、時間外勤務手当 |
| 応募資格 |
【必須（MUST）】 ・OPCツールを使ったOPC技術開発経験 5年以上（特にモデルベースOPC技術開発）・関連部門エンジニア、ツールベンダとのコミュニケーションスキル ・レイアウトエディタの使用経験 ・直面した課題に積極的に取り組める方 【歓迎（WANT）】 ・リソグラフィ検証技術開発経験・リソグラフィ技術に関する知識 ・英語力：相手の話を聞ける （TOEIC 500点程度） 弊社は採用業務の一部を業務委託しております。 そのため、ご応募やオファー返信の後のご連絡・日程調整等は 業務委託先の担当者よりご連絡をさせていただく場合がございます。 予めご了解を御願い申し上げます。 |
| 更新日 | 2021/11/25 |
| 求人番号 | 1965135 |
採用企業情報
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- 資本金28,971百万円
- 会社規模5001人以上
- 半導体
