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  • 株式会社D2S

  • 本垰 秀昭
  • 神奈川県横浜市港北区新横浜2-17-19 新横浜ビル3F


    • 会社規模 非公開
  • 半導体

会社概要

【代表者】本垰 秀昭
【本社所在地】神奈川県横浜市港北区新横浜2-17-19

【当社について】
既存 eBeam 技術を最大限に活用し、少量生産および大量生産に対するマスク製造コストを削減するための GPU+CPU を核としたコンピュータベースの設計プラットフォームを提供する企業です。
D2S TrueMask® ソリューションは、高品質デバイス実現のために必要とされる複雑なフォトマスク形状を、既存の eBeam マスク描画装置を利用し、経済的に許容される描画時間で、28nm あるいはそれ以降の世代の先端フォトマスクの製造を可能とする製品です。
更に、次世代フォトマスク露光装置である MB Mask Writer(マルチビームマスク描画装置)の能力を最大限に発揮させることが出来るマスクデータ処理ソフトウエアをGPU+CPU アーキテクチャのプラットフォームと共に提供を開始しています。

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