ナノインプリント材料開発

当社の半導体材料事業は、長年培ってきた銀塩写真感光材料技術に立脚したパターニング技術を、半導体デバイスに応用するところから始まり、現在では、パターニングから半導体材料/電子材料全般への拡大を図っています。 　本職務では、ナノインプリントリソグラフィーで使用される新規材料の開発および市場導入を担っていただきます。 【担当職務】 　下記のナノインプリント材料開発職務のいずれか、もしくは両方ご担当いただきます。 ＜職務内容＞ 1．半導体デバイス製造用ナノインプリント材料の開発と市場導入 2．光学デバイス等の新規デバイス製造用ナノインプリント材料の研究開発 【仕事の魅力】 　ナノインプリントリソグラフィーは微細パターンや複雑な3次元形状を1回の転写で作成できることから、次世代のパターニング技術として注目を集めており、最近は省電力・省資源などの低環境負荷技術としても期待されています。また、ナノインプリントリソグラフィーは日本国内の有力な関連企業が技術開発をリードしており、世界最先端の開発に携わることが可能です。 　当社も半導体製造用のナノインプリント材料の技術リーダーとして業界に認知されており、今後さらに事業を拡大すべく、最先端のパターニング技術の開発をご担当いただける方を増員募集します。半導体用に培った材料技術を基盤とし、光学デバイス等の新規材料の開発にも活躍の場を広げるチャンスがあるポジションです。

勤務時間:神奈川、静岡 始業終業　　8:20〜16:45 コアタイム　10:20〜14:45 埼玉 始業終業　　8:40〜17:05 コアタイム　10:40〜15:05 東京 始業終業　　9:00〜17:40 コアタイム　10:30〜15:10 待遇・福利厚生:確定給付企業年金、確定拠出年金、社会保険、共済会、財形貯蓄、持株会、住宅融資、育児休暇、介護休暇、看護休暇、介護休暇、アクティブライフ休暇、ボランティア休職、私事休職・再入社、結婚・出産祝い金、出産一時金、短時間勤務制度、新幹線通勤補助、契約ホテル／レジャー施設／スポーツ施設など 休日休暇:完全週休2日、夏休み、年末年始など年間125日 年次有給休暇、ストック休暇　など