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日本拠点　半導体フォトリソグラフィ材料専門家

年収： 800万 ～ 1500万 ?

ヘッドハンター案件

部署・役職名 日本拠点　半導体フォトリソグラフィ材料専門家
職種
業種
勤務地
仕事内容 ・SOC製品の研究開発および技術課題の解決
　次世代SOCスピンオンカーボン材料の配合設計および研究開発を指導し、塗布均一性、耐エッチング性、充填・平坦化性能、フォトレジストとの適合性などの重要な技術課題の解決を推進する。
・技術戦略の策定
　半導体フォトリソグラフィ材料（特にスピンオンハードマスク分野）における国際的な最先端技術動向を把握し、当社SOC製品の技術ロードマップを策定する。
・チーム育成および技術指導
　技術顧問として研究開発チームを指導し、プロジェクトにおける具体的な課題解決を支援するとともに、高分子設計・合成および配合開発におけるコア技術力の向上を図る。
・稼働目安：週12～15時間程度
・定例会議：週1～2回
・半年に一回（数日～2週間以内）上海出張
労働条件 リモートワーク
応募資格

【必須（MUST）】

1．半導体フォトリソグラフィプロセスに関する深い理解を有し、特にハードマスク（Hardmask）の適用領域に精通していること 。
2. 高分子設計および合成に関する知識を有し、ポリマー構造と物性（耐熱性、光学特性、エッチング選択性など）の制御手法を理解していること
3. SOC材料の評価手法に精通していること（例：エリプソメータによるn値・k値測定、SEM／TEMによる断面分析、欠陥検査など）
4. SOCスピンオンカーボンまたは関連フォトリソ材料（BARCなど）の研究開発経験を5年以上有すること
5. 高分子化学、有機化学、材料科学・工学などの関連分野を専攻していること
【学歴】大卒以上

【歓迎（WANT）】

国際的に著名な半導体材料メーカーにおける研究開発経験を有する方
先端ノード（例：14nm以下）におけるSOC材料開発に直接関与した経験を有する方
【語学力】英語又は中国語が話せばベスト（できなくても可）
リモートワーク

可

「可」と表示されている場合でも、「在宅に限る」「一定期間のみ」など、条件は求人によって異なります
受動喫煙対策

屋内禁煙
更新日 2026/04/20
求人番号 8148081

採用企業情報

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