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半導体製造装置(電子ビームマスク描画装置)の次世代装置開発担当<A-14>

年収:800万 ~ 1100万

採用企業案件

採用企業

株式会社ニューフレアテクノロジー

  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
部署・役職名 半導体製造装置(電子ビームマスク描画装置)の次世代装置開発担当<A-14>
職種
業種
勤務地
仕事内容 電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。

半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。こうした顧客ニーズに対応する為の、組織体制強化のための増員募集です。

次世代装置の開発ポジションとして、装置の運用評価、描画結果に対して精度向上のためのビッグデータ解析、補正機能の検討や特許提案、製品化に至る顧客対応まで幅広く活躍いただきます。

■具体的には
・次世代描画装置のシステム・要素開発
装置の知識を習得しながら運用評価を行い、描画精度やスループットがシステム設計で定めた仕様通りかデータ解析を行います。解析結果を他部署と共有し、原因調査と対策検討を早期に行って補正機能の検討や実装指示、および特許提案やパテントクリアランス対応もお任せいたします。
他部署と協業しての海外顧客への装置リリースに従事する業務となります。
また、中長期的な次々世代描画装置システムに必要なキーパーツの要素開発も平行して行います。次世代では実装できなくとも次々世代に間に合うよう先行してキーパーツの要素検討・設計、プロトタイプのPOC機(実証実験機)の立上げや評価を行う業務となります。

【充実の研修・育成制度】
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
1on1による業務支援(月1回、30分程度)もございます。

【組織構成】
・18名
基本的にチームや他部門と協業しながら業務を行っていただきます。
※半導体業界未経験の社員も在籍しております。

【ミッション】
中長期を視野にどういったコンセプトの描画装置をリリースするか検討し、技術ロードマップを作成してシステム設計を行い、プロジェクトをマネジメントして顧客に装置をリリースする。顧客や学会で装置を評価してもらい世界一の装置と認めてもらえるよう邁進します。

発展が著しい半導体に関連する装置を扱っているため、自動運転やスマートフォンなどの技術革新に密接に関わっていることから、未だ世にない世界で初めての技術の根幹に携わることができるといったやりがいを感じることができます。

■働き方
柔軟に働けるフレックスタイム制、リモートワーク可(頻度は都度相談)。
休暇制度も整っており、完全週休2日制(土・日・祝)で年間休日は125日以上。
部署の平均残業時間:月20時間
出張:海外出張有。担当する顧客に拠りますが海外顧客への開発進捗報告やVOC(顧客の声)のキャッチアップを行うために、年3,4回程度、1週間程度の海外出張有。

1)職務内容の変更可能性
⇒有
2)職務内容変更の範囲
⇒会社の定める業務
3)勤務地の変更可能性
⇒有
4)勤務地変更の範囲
⇒海外現地法人を含む、当社各拠点

■職場の魅力
電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。次世代装置としては、生産性、精度、メンテナンス性、などあらゆる面での性能向上が求められます。その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。周辺には、経験豊富なベテラン開発者も多くおり、アドバイス適切なアドバイスを受けることが可能で、自らの開発、研究者者としての成長が期待できる職場です。
労働条件 ■勤務形態
正社員
試用期間:有:6ヵ月(条件・待遇に変動なし)

■勤務地
・みなとみらいオフィス:神奈川県横浜市西区みなとみらい4‐6‐2
・最寄り駅:みなとみらい線/みなとみらい駅徒歩2分 JR京浜東北線/横浜駅徒歩12分 JR根岸線/桜木町駅徒歩15分
※社内規定により、利用路線によって通勤の際の降車駅が異なります。
・受動喫煙対策:「就業時間中の禁煙」および「弊社執務室内全面禁煙」(弊社執務室外に屋内喫煙可能場所あり)

■勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
・時間外労働:有(月平均25時間)

■給与
【主任クラス】年収:720万円~ 960万円、月給:34万円~45万円
【管理職クラス】年収1,170万円~1,610万円、月額52万円~76万円
※1 年収:時間外手当、賞与含む。月給:時間外手当含まない。
※2 時間外手当…24時間/月として算出(2024年度全社平均)

●年収例
・【担当クラス】680万円/29歳(独身/月給30万9000円+時間外手当+各種手当+賞与)
・【担当クラス】820万円/31歳(既婚・子1人/月給36万1500円+時間外手当+各種手当+賞与)
・【主任クラス】910万円/38歳(既婚・子2人/月給39万1500円+時間外手当+各種手当+賞与)
・【管理職クラス】1190万円/42歳(月給54万1000円+賞与)
※時間外手当…24時間/月として算出(2024年度全社平均)

●その他
・昇給:有(年1回:4月)
※昇格に伴う昇給は10月に実施。
・賞与:有(年2回:7月、12月)
・福利厚生支援制度:教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり。
・独身者用、世帯主用借り上げ社宅制度あり(社宅に入らない場合は、住宅費補助、家賃補助あり)。
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします

■休日・休暇
・完全週休2日制(土・日)、祝日
・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等
・年間休日125日以上

■待遇・福利厚生
【社会保険】
・厚生年金、健康保険(東芝健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険

【福利厚生】
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度(確定拠出年金)、企業年金
・財形制度
・東芝グループ保険制度(生保、損保)
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・住宅費補助
・「ヒト」への積極投資「NFT-HEC」制度
(健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助)
・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与)
・団体長期障害所得補償保険(GLTD)
・保養所、健康診断、健康保健指導
・ステップアップ休暇
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・次世代育成手当
・教育研修制度 ほか
応募資格

【必須(MUST)】

下記①に加え、②・③のいずれかの経験をお持ちの方
① 半導体領域での技術業務経験
・要素開発/設計/評価/解析のいずれかの実務経験
(例:リソグラフィ、エッチング、アッシング、CMP、成膜、装置制御 など)

② プロジェクトリーダー経験
・数十名規模の技術プロジェクトでのリーダー経験
(進捗管理、技術判断、他部門・顧客との調整等)

③ 英語での技術折衝経験
・海外顧客と、技術要件・仕様のすり合わせを行った経験

アピールポイント Uターン・Iターン歓迎 新規事業 海外事業 完全土日休み フレックスタイム
リモートワーク

「可」と表示されている場合でも、「在宅に限る」「一定期間のみ」など、条件は求人によって異なります
受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2026/03/19
求人番号 7811558

採用企業情報

株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
  • 会社概要

    【創業】2002年8月1日
    【代表者】高松 潤
    【資本金】64億8,600万円
    【従業員数】907名(2024年3月31日現在)
    【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

    【事業内容】
    当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。

    電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI(大規模集積回路)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置です。

    エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。

    マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版(フォトマスク)を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。

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