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【半導体プロセス技術】最先端の研究開発×年間休日127日|イオン注入の国内屈指のスペシャリスト集団|転勤なし

年収:応相談

採用企業案件

採用企業

株式会社イオンテクノセンター

  • 大阪府

    • 会社規模非公開
  • 半導体
部署・役職名 【半導体プロセス技術】最先端の研究開発×年間休日127日|イオン注入の国内屈指のスペシャリスト集団|転勤なし
職種
業種
勤務地
仕事内容 【当社について】
当社は、進化の激しい半導体業界において、デバイスの高性能化や品質向上に欠かせない「分析・評価・解析」のプロフェッショナル集団です。
大手電機メーカーや研究機関、大学などを主要クライアントとし、次世代技術の開発パートナーとして確かな信頼を築いてきました。
スマートフォンの高度化から自動運転、AIの実装まで、社会インフラを支える半導体の進化。
その最前線で「目に見えない課題を可視化する」ことで、日本の技術革新に貢献しています。

【仕事内容】
最先端半導体におけるプロセス開発およびイオン注入技術のプロセス技術職を担っていただきます。
単に装置を動かすオペレーション業務ではなく、顧客の実現したいデバイス特性に合わせて、最適な注入条件の導出、プロセスフローの構築、試作・評価までを一気通貫でプロデュースする役割です。

【具体的な業務内容】
◆プロセス開発・試作
 イオン注入装置を用いた不純物導入プロセスの条件出し、および最適化。
◆リソグラフィ・エッチング
 EB描画装置、コーター&デベロッパー、エッチング装置を用いた微細パターニング。
◆評価・解析
 SEM(走査電子顕微鏡)や膜厚計を用いた形状観察、膜厚測定、データ解析。
◆技術コンサルテーション
 顧客(メーカー・大学)の研究者と対話し、試作結果に基づく改善提案や次なるステップの策定。

【本ポジションで得られること】
◆市場価値の高い専門性
 半導体製造の最重要工程の一つである「イオン注入」に特化した深い知見と、EB描画などの多岐にわたるプロセス技術を同時に習得できます。
◆最先端技術への関与
 世の中に出る数年前の「次世代デバイス」の研究開発に携わることができ、技術者としての知的好奇心が満たされる環境です。
◆課題解決能力の向上
 定型業務ではなく、一案件ごとに異なる技術課題に挑むため、エンジニアとしての本質的な「考える力」が磨かれます。

【当社で働くポイント】
◆「技術への集中」と「働きやすさ」の両立
 年間休日125日以上、土日祝休みという安定した環境で、心身ともにゆとりを持って研究・開発に没頭できます。

【キャリアステップ】
入社後は、当社の核となるイオン注入技術を中心としたプロセスエンジニアとして、パワーデバイス向けプロセス開発等のスペシャリストを目指すことも、プロジェクト全体を統括する技術リーダーとして、顧客との共同研究をリードする立場、事業部のマネジメント等へ進むことも可能です。
少人数の組織だからこそ、個人の志向に合わせた柔軟なキャリア形成を支援します。

【社風】
「技術の会社」らしく、論理的で誠実なコミュニケーションを大切にする風土です。
一方で、年間休日は127日(2025年度予定)と、ワークライフバランスもしっかり確保。
オンとオフのメリハリをつけ、中長期的に腰を据えて専門性を磨き続けたい方に最適な環境が整っています。

【配属先情報】
経験豊富なエンジニアが在籍しており、大学での研究経験のみの方から、製造現場での実務経験者まで幅広く活躍しています。チームワークを重視しつつ、個々の裁量も大きいため、自分のアイデアをプロセスに反映しやすい環境です。

【私たちの役割】
AI発展を中心として世界の半導体の研究開発が加速する中、研究開発におけるイオン注入の役割が増しています。
また、昨年より半導体の新規プロジェクトによる開発業務でも将来の半導体技術の発展に貢献しています。
私たちは省電力化向けを中心とした研究開発にて会社及び個人の成長により引き続き社会のさらなる発展に貢献してまいります。
労働条件 【勤務地】
本社 大阪府枚方市津田山手2-8-1 津田サイエンスヒルズ
最寄駅:JR学研都市線/津田駅 京阪バス 5分程度
受動喫煙対策:敷地内全面禁煙
転勤:当面なし

【勤務時間】
8:45~17:15(所定労働時間:7時間30分)
休憩時間:60分

【雇用形態】
正社員
期間の定め:無
試用期間:3ヶ月

【給与】
月給
昇給:年1回
賞与:年1回+決算賞与

【休日・休暇】
年間休日127日(2025年度)
完全週休2日制(土日祝休み、その他休暇は会社カレンダーによる)
年間有給休暇:10日~20日(下限日数は、入社半年経過後の付与日数)

【待遇・福利厚生】
通勤手当:全額支給あり
社会保険:健康保険、厚生年金保険、雇用保険、労災保険、退職金制度
定年:60歳
教育制度・資格補助補足:特記事項無し
応募資格

【必須(MUST)】

・大学で半導体に関する研究または学習経験がある方
・半導体の研究開発、またはプロセス開発に携わった経験をお持ちの方
・半導体業界でのプロセス、評価、製造などの実務経験がある方
・半導体デバイス/工程に対して関心を持ち、自発的に学びたい方
・研究開発やプロセス改善などに意欲的に取り組める方
・イオン注入装置のメンテナンス又はオペレーションに関わる業務経験がある方
・イオン注入を中心とした拡散プロセスのプロセス開発経験がある方

【歓迎(WANT)】

・前向きで向上心のある方
・好奇心が旺盛な方(新しい事が好きな方)
・物理が好きで、半導体技術での社会貢献に興味のある方
・自ら考えて自発的に、かつチームで協力し行動出来る方

アピールポイント Uターン・Iターン歓迎 完全土日休み
受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2026/03/18
求人番号 7792546

採用企業情報

株式会社イオンテクノセンター
  • 株式会社イオンテクノセンター
  • 大阪府

    • 会社規模非公開
  • 半導体
  • 会社概要

    【設立】2008年6月10日
    【代表者】石垣 祐紀
    【本社所在地】大阪府枚方市津田山手2丁目8番1号
    【その他事業所】大阪

    【事業内容】
    ■半導体プロセス
    ■研究開発
    ■BPOサービス
    ■RPOサービス
    ■スペシャリストサービス(人材派遣)
    ■ヒューマンリソースソリューション(人材紹介)
    ■分析・評価・試験サービス
    ■イオン注入サービス

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