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CMPの研磨機構解明、スラリの研究開発担当

年収:800万 ~ 1000万

ヘッドハンター案件

部署・役職名 CMPの研磨機構解明、スラリの研究開発担当
職種
業種
勤務地
仕事内容 <業務概要>
当研究部にて発足された新プロジェクトのメンバーとして、半導体の製造工程で使用されるCMPスラリの研究開発、研磨機構解明をお任せいたします。①CMPスラリの配合、②それを用いた研磨実験、③その結果の解析、④結果を踏まえた次の実験計画~実行までの一連の流れをメインミッションとして業務遂行いただく予定です。実験結果を踏まえてプロジェクトメンバーの分析、計算シミュレーション、ポリマー合成、事業部などの関係各部門との打合せを通して研究開発の方針を立案しますが、主体的に考え、行動いただくことを期待しています。社外のお客様とのやり取りもご担当いただきます。

<業務詳細>
砥粒や添加剤などの材料と、圧力などの研磨条件が研磨にどのような影響を及ぼすかを研磨実験を通して調べ、それを基に新たな仮説を立てて検証するサイクルを回します。
その際、分析部門や計算シミュレーション部門、開発部などの人達を巻き込みながら、多角的な視点で現象をみつめる体制を整えています。
製品売上げの8割以上は海外の大手半導体メーカー向けであるため、材料開発のステージが上がると一般ニュースでも聞くような世界的な半導体メーカーと関わることができます。
このプロジェクトでは中長期目線の研究開発テーマとして研磨機構解明、それに基づく材用開発に焦点を当てていますが、ゆくゆくは前工程の別テーマも調査していく構想です。
応募資格

【必須(MUST)】

・無機化学、電気化学、物理化学、界面化学の分野における研究開発経験
・グローバルな感覚/英語力を有していること(TOEIC:600点以上目安)
・ナノ粒子、無機酸化物の合成・表面処理・分散制御技術のいずれかの知識を有していること
・新しいことに挑戦するポジティブなマインドを有していること
・チームワークでの仕事に長け、他者の様々な考え方に柔軟に対応できること

受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2026/02/04
求人番号 7109953

採用企業情報

この求人の取り扱い担当者

  • 3.35
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    • 東京都
    • 明治大学
  • メーカー メディカル 物流・倉庫
    • 化学領域とコンシューマ領域を専門としており、大手企業を中心にご担当しております。 営業職、事業企画、技術職等、網羅的に多様な領域にてご入社を支援させていただき、良好な関係を築いてまいりました。 キャリア相談等も受け付けておりますので、お気軽にご相談ください。
    • (2025/07/03)

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