1. 転職サイト ビズリーチ
  2.  > 
  3. 求人検索
  4.  > 化合物半導体ウエハプロセスのエピタキシャル成長技術の装置管理・メンテナンス 【高周波光デバイス製作所】

転職・求人情報の詳細をご覧になる場合は会員登録（無料）が必要です

新規会員登録（無料）

化合物半導体ウエハプロセスのエピタキシャル成長技術の装置管理・メンテナンス 【高周波光デバイス製作所】

年収：800万 ～ 1200万

ヘッドハンター案件

部署・役職名 化合物半導体ウエハプロセスのエピタキシャル成長技術の装置管理・メンテナンス 【高周波光デバイス製作所】
職種
業種
勤務地
仕事内容 【募集背景】
・1960年代より積み重ねてきた研究開発の歴史を継承し、今もなお進化を続ける同社の化合物半導体技術。その技術から生み出される高周波・光デバイスは、AIの普及で大量の情報を処理するデータセンター、5Gなどの通信インフラ、センシング等に使用されており、性能面で他社の追随を許さず、国内外でトップクラスのシェアを誇ります。近年、通信トラフィックは急速に増大しており、お客様からの期待に応えるため、この度生産能力を大きく引き上げる「増産」へと踏み出すことになりました。これら最先端デバイスの性能を支える要となるのが、エピタキシャル成長技術です。
・生産量拡大に不可欠な装置安定稼働に向けて、MOCVD装置の管理・保守メンテナンスを担当できる技術者を募集します。特にAsH₃ や PH₃ を使用するため、ガス供給設備・トラップ・排気系統まで含めた安全管理が重要であり、装置安定稼働と設備信頼性向上に貢献できる方を求めています。

【職務内容】
・光通信用途を始めとしたデバイス開発を支える化合物半導体エピタキシャル成長技術について、特にMOCVD装置を中心としたエピタキシャル成長設備の維持管理・改善活動を担当いただきます。
（業務内容例）
・MOCVD装置の状態管理、定期メンテナンス、トラブル対応
・成長装置（反応炉、シャワーヘッド、マニホールド）のクリーニング・再組立
・ガス供給システム（TMGa、TMIn、AsH₃、PH₃等）の設備管理
・AsH₃／PH₃トラップ、除外装置、排気スクラバーの点検・交換
・設備の異常監視、改善提案やパーツ寿命管理（予防保全）
・安全運転のための手順見直し、教育資料の作成
・設備メーカーとの調整・改良に向けた仕様検討
・設備管理の視点からエピタキシャル成長条件の高効率化に向けた改善提案　等

将来的には装置リーダーとして複数ラインの管理・後輩指導。

【組織について】
●本部・事業部
国内・海外顧客並びに社内部門に対する高周波デバイス製品・光デバイス製品の販売・開発
●ウエハ製造部
高周波デバイス・光デバイスの半導体ウエハ製造、エピ/プロセスの生産技術、要素技術開発
●エピ技術課
高周波デバイス・光デバイスのエピ構造開発、エピ量産技術

【やりがい/魅力】
・エピタキシャル成長技術は化合物半導体デバイスの性能を左右する最重要技術です。
・エピタキシャル成長装置の安全・安定稼働を担うこのポジションは、まさに“製造ラインの心臓”を預かる役割であり、あなたの設備技術が、世界トップクラスの光デバイス／高周波デバイスの品質を支えます。
・設備技術だけでなく、成長技術やデバイス設計と連携し、成長装置の最適化技術についても経験する事で、自身のキャリアを広げる事ができます。
・同所の製品デバイスは、データセンター向け光デバイスで世界トップクラスシェアを誇る実績を持つほか、5G/6G・衛星通信などにも製品を展開しています。

【職場環境】
・平均時間外就業：20時間（平均）/35時間（繁忙期）
・出張：有 （年数回）
・リモートワーク：有（週3日程度利用可能）
・コアタイムレスフレックス制度

【勤務地詳細】
・兵庫県伊丹市内の同社事業所（JR北伊丹駅からバスで約10分）
労働条件 勤務条件：試用期間あり（3ヶ月間、条件変更なし）、月給制（月額給与30～54万円）、昇給昇格年1回（4月）、賞与年2回支給（6・12月）
就業時間：8:30～17:00、7時間45分勤務（休憩45分）、フレックスタイム制有り、（コアタイムなし）
休日休暇：年間休日125日（2025年度）、土曜/日曜/祝日、GW、夏季、年末年始など（会社カレンダーに準じる）、年次有給休暇（年間20日～25日※入社時より付与。付与日数は入社日により変動）、チャージ休暇（2～4日 30歳、40歳、50歳到達年）
福利厚生・その他：社会保険完備（雇用、労災、健康、厚生年金）、寮、社宅、家賃補助制度、財形貯蓄、住宅融資、社員持株会、社員互助会、保養所、契約リゾート施設、スポーツ施設など 、事業所屋内禁煙
【業務変更の範囲】会社の定める業務（※業務の都合によっては会社外の職務に従事するため出向又は転属を命じることがあります）
【勤務地変更の範囲】会社の定める場所（※業務の性質等に応じリモートワークを認める場合は、リモートワーク を行う場所（自宅等）を含む。 ）
応募資格

【必須（MUST）】

・半導体製造装置（MOCVD、CVD、PVD、エッチングなど）の運用または保守経験のある方。
・ガス供給設備・排気設備に関する基礎知識のある方。
・安全管理（特に毒性ガス・可燃性ガス）の基礎理解のある方。
・工学系の基礎知識（材料、機械、電気、化学など）のある方。

【歓迎（WANT）】

・MOCVD装置のメンテナンス経験のある方。
・AsH₃／PH₃／TMGa／TMIn など毒性・可燃性ガスの取り扱い経験のある方。
・設備改善、予防保全、異常解析などの実務経験のある方。
・化合物半導体（InP, GaAs, GaNなど）の結晶成長・評価経験に関する実務のある方。
・ISO・安全衛生基準に基づいた運用改善の実績がある方。

【求める人物像】
・装置の構造を理解し、内部構造からメカニズムを把握できる方。
・安全最優先で業務に取り組める方。
・メーカーとやり取りしながら改善提案できる方。
・現場に寄り添い、継続的に設備を良くしていく姿勢のある方。
・一緒に働く人だけでなく、関わる全ての人への心遣いや配慮ができる人。
受動喫煙対策

喫煙室設置
更新日 2025/12/11
求人番号 6323261

採用企業情報

この求人の取り扱い担当者

転職・求人情報の詳細をご覧になる場合は会員登録（無料）が必要です

新規会員登録（無料）

<< 検索結果に戻る