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半導体製造装置の高性能計算機システム開発(HPC/ Linux/Zabbix)

年収:800万 ~ 1100万

採用企業案件

採用企業

株式会社ニューフレアテクノロジー

  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
部署・役職名 半導体製造装置の高性能計算機システム開発(HPC/ Linux/Zabbix)
職種
業種
勤務地
仕事内容 【求人概要】
電子ビームマスク描画装置の頭脳(HPC:High Performance Computingシステム)の設計・開発・最適化を担当します。
装置を統括する計算機基盤を構築し、ナノメートル精度で描画を高速に制御する超高性能コンピューティング環境を作り上げる役割です。

【業務内容】
■HPC(計算機)システムの設計・開発
・電子ビームマスク描画装置を制御するHPCシステム全体の設計・開発(Linuxベース)
・装置全体を統括するリアルタイム制御・分散処理アーキテクチャの構築
・数百GB〜TB 以上の巨大データを扱う大規模高速データ処理基盤の設計・最適化
・各サブシステム(電子ビーム源、ステージ、真空制御など)とのインターフェース設計・通信制御開発
・高信頼ネットワーク/ストレージを含むインフラ環境の設計・構築・運用
・シミュレーション環境での性能検証、および実機を用いた統合テスト

■統合監視システムの開発
・装置およびHPCシステムの稼働状況・リソース利用を可視化する監視ダッシュボードの設計・開発
・障害検知・アラート通知機能の実装(ログ解析、自動アラート、復旧プロセス設計)
・Zabbix等の監視ツール導入・カスタマイズ
・稼働データ分析に基づくシステム改善・信頼性向上活動

■グローバル展開・運用支援
・海外拠点へのHPC導入、現地技術サポート(年1〜2回/5〜10日程度)
・海外拠点とのリモート連携・保守体制の構築
・現地運用データを活用したグローバル最適化の推進

【 HPC (計算機) システムとは】
描画装置全体を統括する“頭脳”の役割を担います。
描画アルゴリズム、ステージ制御、電子ビーム源制御、データ補正などすべての要素をリアルタイムで制御。
極めて高い精度(ナノメートル単位)を実現するための、制御・演算・通信の中枢がHPCです。

【計算機開発担当として関われる範囲】
ハードウェア調達やOS構築などのインフラ設計から、
装置制御を支えるソフトウェア基盤の設計・実装・運用まで一貫して担当します。
「ハード・ソフト両面に深く関われる、常に最新を追い求める、新規・新奇アイデアを創出する」ことが本職種の最大の特徴です。

【使用ツール】
・OS: Linux / Unix 系
・言語: C, C++, Shell Script, Perl
・監視ツール: Zabbix, Nagios, Cacti 等
・インフラ技術: 高性能サーバ・ネットワーク・ストレージ構築、仮想環境構築

【キャリアステップ】
・半年後: HPC構成・運用を理解し、既存装置の保守・改善を担当
・1年後: 部分的な設計領域をリードし、システム最適化を主導
・2〜3年後: HPCアーキテクト/技術リーダーとして次世代装置の基盤開発に参画
 ※将来的にはマネージャー/スペシャリスト/コンサル的立場など多様なキャリアに発展可能

【採用背景】
電子ビームマスク描画装置の性能の更なる向上には、リアルタイムで超巨大なデータを、超高速に、1つのミスも無く処理する「HPCシステム」の革新が不可欠。今後、次世代装置の開発を見据え、HPC 開発を牽引するエンジニアを増員募集。中途入社者には、これまで培ったIT・インフラ技術を武器に、「装置開発の本質に踏み込むインフラエンジニア」として新たな領域を切り拓くことを期待しています。

【組織構成】
・チーム:5名(20代2名、30代1名、40代2名)
・メンバー構成:物理・情報・数理・電気など自然科学系出身者中心

1)職務内容の変更可能性
⇒有
2)職務内容変更の範囲
⇒会社の定める業務
3)勤務地の変更可能性
⇒有
4)勤務地変更の範囲
⇒海外現地法人を含む、当社各拠点

【働き方】
・残業:平均20~30時間/月(繁忙期により変動)
・在宅勤務比率:10%程度
・出張:年1~2回(5~10日/回、海外拠点中心)

【職場の魅力】
・「装置の頭脳」を自ら設計する醍醐味
 単なるサーバ構築だけではなく高速ネットワークを駆使し、装置の性能・精度を左右する HPCそのものを創る仕事。
・研究開発×製品化の両輪
 理論設計から実装、実機検証まで一気通貫で関われる。
・異業界からの挑戦歓迎
 チームには、ITインフラ・ネットワークエンジニア出身者、組込系ソフトウェアエンジニアも在籍。半導体や装置知識は入社後に丁寧に学べる体制あり。

・社会的インパクト
 あなたが設計したHPCシステムが、世界最先端の半導体チップ製造を支えます。
労働条件 ■給与
【担当クラス】年収:570万円~ 810万円、月給:26万9千円~38万円
【主任クラス】年収:720万円~ 960万円、月給:34万円~45万円
【管理職クラス】年収1,170万円~1,610万円、月額52万円~76万円
※1 年収:時間外手当、賞与含む。月給:時間外手当含まない。
※2 時間外手当…24時間/月として算出(2024年度全社平均)

●年収例
・【担当クラス】680万円/29歳(独身/月給30万9000円+時間外手当+各種手当+賞与)
・【担当クラス】820万円/31歳(既婚・子1人/月給36万1500円+時間外手当+各種手当+賞与)
・【主任クラス】910万円/38歳(既婚・子2人/月給39万1500円+時間外手当+各種手当+賞与)
・【管理職クラス】1190万円/42歳(月給54万1000円+賞与)
※時間外手当…24時間/月として算出(2024年度全社平均)

●その他
・昇給:有(年1回:4月)
※昇格に伴う昇給は10月に実施。
・賞与:有(年2回:7月、12月)
・福利厚生支援制度:教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり。
・独身者用、世帯主用借り上げ社宅制度あり(社宅に入らない場合は、住宅費補助、家賃補助あり)。
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします

■試用期間
・有:6ヵ月(条件・待遇に変動なし)

■勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
※在宅勤務制度

■休日・休暇
・年間休日125日以上
・完全週休2日制(土・日)、祝日 ※海外駐在時は週休2日となります
・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等

■社会保険
・厚生年金、健康保険(東芝健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険

■福利厚生
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度(確定拠出年金)、企業年金
・財形制度
・東芝グループ保険制度(生保、損保)
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・住宅費補助
・「ヒト」への積極投資「NFT-HEC」制度
(健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大30万円補助)
・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与)
・団体長期障害所得補償保険(GLTD)
・保養所、健康診断、健康保健指導
・ステップアップ休暇
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・次世代育成手当
・教育研修制度 ほか

■勤務地
・本社:神奈川県横浜市磯子区新杉田町8-1
※最寄駅:JR京浜東北根岸線/新杉田駅
・受動喫煙対策:「就業時間中の禁煙」および「敷地内全面禁煙」 
応募資格

【必須(MUST)】

・Linux/Unix環境でのサーバー構築または運用経験・C, C++, Shell, Perl いずれかの開発経験c

【歓迎(WANT)】

・HPC/ハイスペックインフラ設計・構築・運用の経験
・データセンターや計算機メーカーでのインフラ構築経験
・科学技術計算・数値計算の知見
・障害検知システムの構築・運用経験(Zabbix/Nagios/Cacti)
・仮想環境構築・運用経験

アピールポイント 完全土日休み フレックスタイム Uターン・Iターン歓迎 海外事業
リモートワーク

「可」と表示されている場合でも、「在宅に限る」「一定期間のみ」など、条件は求人によって異なります
受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2025/12/03
求人番号 3083469

採用企業情報

株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
  • 会社概要

    【創業】2002年8月1日
    【代表者】高松 潤
    【資本金】64億8,600万円
    【従業員数】907名(2024年3月31日現在)
    【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

    【事業内容】
    当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。

    電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI(大規模集積回路)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置です。

    エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。

    マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版(フォトマスク)を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。

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