
株式会社足立熱処理研究所
代表取締役:足立 雅樹
- 所在地
- 愛知県小牧市高根三丁目339番地
- 資本金
- 2,000万円
- 会社規模
- 非公開
- 業種
- 素材
企業概要
【設立】1983年9月 【代表者】足立 雅樹 【資本金】2,000万円 【本社所在地】愛知県小牧市高根三丁目339番地 【事業内容】 ■熱処理全般 ・真空焼入れ ・真空焼なまし ・固熔化熱処理 ・折出硬化処理 ・サブゼロ処理 ■CVD(気相化学蒸着)法コーティング ・TiCコーティング ・SiCコーティング
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代表取締役:足立 雅樹
【設立】1983年9月 【代表者】足立 雅樹 【資本金】2,000万円 【本社所在地】愛知県小牧市高根三丁目339番地 【事業内容】 ■熱処理全般 ・真空焼入れ ・真空焼なまし ・固熔化熱処理 ・折出硬化処理 ・サブゼロ処理 ■CVD(気相化学蒸着)法コーティング ・TiCコーティング ・SiCコーティング
