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製品開発プロセス改善(BOM)

年収:800万 ~ 1100万

採用企業案件

採用企業

株式会社ニューフレアテクノロジー

  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
部署・役職名 製品開発プロセス改善(BOM)
職種
業種
勤務地
仕事内容 【業務内容】
〇下記の業務を担当していただきます。
・製品開発業務プロセス改善/BOM整備の推進
・製品開発関連管理規程の改善
・設計開発効率化ソリューションの提案

【募集背景】
・業務拡大に伴う組織の強化、組織構成上の人材確保のため。

【職場や職務の魅力】
・世界的にトップクラスのシェアをもつ電子ビームマスク描画装置、最先端の半導体マスク検査装置やSiCに関する半導体製造装置の製品安全に関わる分野で活躍できます。
・部員にキャリア採用のメンバーが多く、馴染みやすい環境です。
・新型コロナ感染予防による在宅勤務有ります。
(新型コロナ感染状況により変更の場合あり)
労働条件 ■給与
【担当クラス】年収:400万円~ 700万円、月給:22万円~39万円
【主任クラス】年収:550万円~ 800万円、月給:30万円~45万円
【参事クラス】年収:900万円~1100万円、月給:50万円~60万円
●年収例
・640万円/29歳(独身/月給30万8000円+時間外手当+各種手当+賞与)
・760万円/33歳(既婚・子1人/月給37万1000円+時間外手当+各種手当+賞与)
・1065万円/参事(月給56万8500円+賞与)
※時間外手当…24時間/月として算出(2022年度全社平均)
・昇給:有(年1回:4月)
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします

■試用期間
・有:6ヵ月(条件・待遇に変動なし)

■勤務時間
・8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
・時間外労働:有(月平均25時間)

■休日・休暇
・完全週休2日制(土・日)、祝日
・年末年始休暇、夏季休暇
・有給休暇(初年度入社1~19日(入社月による)、最大24日、繰り越し含め最大48日)
・慶弔休暇、特別休暇 等
・年間休日125日以上

■社会保険
・厚生年金、健康保険(当社グループ健康保険組合)、雇用保険、労災保険、介護保険

■福利厚生
・定年:60歳、再雇用:65歳まで
・退職金制度、企業年金
・財形制度
・借上げ社宅(適用条件有)
※独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・目的型福祉制度(健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーション 年間最大
30万円補助)
・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与)
・共済会制度
・保養所、健康診断
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・教育研修制度 ほか
応募資格

【必須(MUST)】

・製造業における製品開発・設計プロセスのうち、研究・開発、製品設計、技術管理(規程整備など)、品質保証(設計品質改善など)、情報システム(設計管理システム導入など)に携わったことがある方

【歓迎(WANT)】

・製造業における開発設計(電気・電子・機械・化学など)の経験がある方
・開発設計に関する業務改善を推進した経験がある方
・多くの部門との折衝、調整業務の経験がある方
・半導体製造装置関連の知識
・英文の読解および作成が可能な方(今後向上させたいと意欲がある方歓迎)

アピールポイント Uターン・Iターン歓迎 完全土日休み フレックスタイム
受動喫煙対策

屋内禁煙

更新日 2023/11/22
求人番号 2624609

採用企業情報

株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー
  • 神奈川県

    • 資本金6,486百万円
    • 会社規模501-5000人
  • 機械
  • 会社概要

    【設立年月日】2002年8月1日
    【代表者】高松 潤
    【資本金】64億8,600万円
    【従業員数】799名(2023年3月31日現在)
    【本社所在地】神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

    【事業内容】
    当社は電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。

    電子ビームマスク描画装置は、電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI(大規模集積回路)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置です。

    エピタキシャル成長装置は、ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハ上にシリコン単結晶を成長させるための装置です。

    マスク検査装置は、電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版(フォトマスク)を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。

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