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【神奈川県勤務】制御ソフトウェア開発マネージャー

年収:1000万 ~ 1200万

採用企業案件

部署・役職名 【神奈川県勤務】制御ソフトウェア開発マネージャー
職種
業種
勤務地
仕事内容 【職務内容】
半導体製造装置(プラズマCVD、プラズマALD-薄膜形成装置)での装置制御ソフトウェアおよび制御デバイスの設計開発を行っていただきます。
開発型の業務にはなりますが、装置調整作業、客先デモ対応、開発進捗の客先プレゼンなどを幅広く対応する必要があります。
出張に関しては多い方で年の1/5前後が海外現法人、顧客先への出張となります。
海外出張先は米国、韓国、台湾、アイルランド等です。

【業務詳細】
・制御ソフトウェア設計、およびPLCシステム構築
 ((1)プロセスチャンバー内のプロセス制御、(2)プロセスチャンバーへのウエハ搬送制御、(3)顧客先ホストシステムへの通信連動制御)
・実装評価、データ分析、改善
・他開発部署、およびベンダーとの連携、調整業務

【弊社について】
オランダに本拠地を置くウェハ処理用の半導体プロセス装置の大手サプライヤの日本法人として設立された、精密機器製造企業です。
米国、香港にも拠点があり、グループの緊密なネットワークを駆使し、主力製品であるCVD装置を始め、ラインアップ製品全般におき、世界中の多くのユーザーから高い評価と支持を得ています。現在、ヨーロッパ、アメリカ、日本を前工程の主要拠点として位置付け、各拠点において下記の装置の研究開発、製造を分業して行っています。同業の外資で、このような体制の下でマネジメントを行っている企業は少数です。
■ヨーロッバ(オランダ)⇒ 縦型減圧CVD装置、RTP装置
■アメリカ⇒エピタキシャル成長装置、Atomic-Layer CVD装置、Thermal ALD装置
■日本⇒プラズマALD装置、プラズマCVD装置
※CVD(Chemical Vapor Deposition)
薄膜材料を構成する元素からなる1種または数種の化合物ガス、単体ガスをウエハ上に供給し気相またはウエハ表面上での化学反応により所望の薄膜を形成させる装置
※RTP(Rapid Thermal Process)
熱処理において、スループプットを向上させる目的のために急速に温度を上昇、加工させる装置
※エピタキシャル成長装置(Epitaxial Growth System)
ウエハの結晶性を受け継いで単結晶層を成長させる装置

【グループにおける日本法人の立ち位置】
外資系企業ながら開発拠点が日本にあり、CVD装置は研究開発、カスタマイズなど設計を日本で行っています。
製品毎に主要開発拠点があり、日本はCVD装置の開発拠点という位置づけになります。
また、近年話題のハフニウム使用のゲート絶縁膜分野では先駆的な存在となります。

【社風・環境】
日本国内において製品開発、販売、サービスまで一連のメーカー活動を行なっているため、外資企業でありながら、国内メーカーに非常に近い雰囲気があります。
日本、アジア、アメリカ、ヨーロッパとそれぞれの拠点の独立性が高いので、外資ならではの本国からの執拗な干渉も少ないです。
技術職の方を始めとして従業員一人ひとりの位置付けが、製品開発、販売、サービスの関わりの中でしっかりと意識できる環境なので、従業員の仕事に対するモチベーションが高いのが自慢です。これは離職率の低さ(年5~6%)にも現れています。
労働条件 【勤務地】
神奈川県川崎市麻生区
最寄駅:小田急多摩線「黒川駅」

【雇用形態】
正社員
試用期間:3ヶ月
雇用期間:定めなし

【手当】
通勤手当/住宅手当/家族手当

【各種保険】
雇用保険/労災保険/健康保険/厚生年金保険

【福利厚生】
厚生年金基金/退職金

【制度面の備考】
年金基金/健康診断/財形貯蓄制度/健保・各種契約保養所(補助金あり)/企業医療保険/地域手当(東京7%)など

【就業時間】
9:00~17:30
休憩:60分

【休日休暇】
完全週休2日制/年末年始休暇/夏季休暇/有給休暇/創立記念日
創立記念日(6月14日)
年間休日日数:130日
夏季休暇日数:5日
年末年始休暇日数:7日
初年度有給休暇日数:12日
最大有給日数:22日
応募資格

【必須(MUST)】

・装置制御ソフトウェア開発経験者(他業種での経験も可)
・日本語(ネイティブレベル)、英語(中級レベル以上)
・協調性があり組織的に動ける方


【歓迎(WANT)】

・チーム管理経験
・Windows環境でのVisual C++、C#、またはDelphi経験者
・英語(上級レベル以上)
※日本製の装置を扱いますが、海外からの問い合わせの対応がございます。

更新日 2021/09/16
求人番号 1885638

採用企業情報

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