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部署・役職名 | リソグラフィ技術開発エンジニア |
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職種 | |
業種 | |
勤務地 | |
仕事内容 |
リソグラフィ技術開発 、具体的には、 ①レジスト材料選定 ②塗布現像技術開発 ③露光技術開発 最適なNA、σ、露光量、Focus等の設定 ④リソグラフィ評価技術開発 寸法測定 重ね合わせ 断面観察 以上、設計ルールは20nm~1umまで幅広い技術開発を実施する ■設備立ち上げ、設備改善、低コスト化技術開発 具体的には、 ①中古設備選定、導入、立ち上げ ②設備ハードウエア改善による、能力、特性改善、コスト低減 ③プロセス改善による能力改善、特性改善 ④低欠陥プロセス開発、設備改善 ⑤高スループット技術開発 ⑥APC、FDC、VM技術開発 ⑦低コスト化技術開発 |
労働条件 | 屋内原則禁煙(喫煙室あり) |
応募資格 |
【必須(MUST)】 次の条件の多くを満たしている社員が望ましい。- 応募業務に3年以上の経験を有していることが望ましい。 - 半導体全般に対する知識、経験を有し、自らリソグラフィに必要なSPECを設定し、達成に向けて取り組める人材。 - リソグラフィに関する基礎知識を有し、プロセス開発、プロセス改善等を自ら行える人材。 - リソグラフィに必要な評価技術を習得していること ・測長SEM、断面SEM、重ね合わせ - パーティクル欠陥検査装置、パターン欠陥検査装置などの操作技術を有し、みずから設 備、 プロセスの欠陥改善に取り組むことが出来る人材。 -レジスト材料に関する基礎知識を有し、レジストメーカと共同で必要なレジストを開発する ことが出来る人材。 - リソグラフィ開発に必要なTEGパターンを自ら考案、GDSを作成することが出来る人材。 - 作成したTEGマスクを用いて、DOF,OPC,DFMなど各種評価を自ら行い、技術可否を判断できる人材。 - 設備ハードウエアについての基礎知識を有し、自ら改善を行える人材。 - 既存のチームと共に努力ができる人材。 - 会社の方針を理解し、自ら成功に向けた取り組みができる人材。 - 工場間の移動など、勤務地変更を厭わないこと。 - チームの目標を理解し、その達成に向けて自ら目標設定・スケジュール管理を行い、その達成に向けて主体的に取り組める人材。 - 社内外の関連部署と、口頭及び文書で効率的にコミュニケーションできる人材。 - 自分の業務の進捗について、チームリーダー、上位エンジニアに、口頭及び文書で報告、相談できること。また、チームリーダに、問題をタイムリーに報告できること。 - 常に会社の方針、生産計画を認識し、自分に求められる役割を正しく把握できる人材。 - 英語でコミュニケーションできる能力(目安としてTOEIC≧700点) |
更新日 | 2020/04/01 |
求人番号 | 1326801 |
採用企業情報
この求人の取り扱い担当者
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